按照國際慣例，無塵凈化水平主要是根據每立方米空氣中直徑大于分類標準的顆粒物數量來定義的。也就是說，所謂無塵并不是100%無塵，而是控制在一個非常小的單元內。當然，這個標準中符合粉塵標準的顆粒相對于我們常見的粉塵來說是非常微小的，但是對于光學結構來說，哪怕是一點點的粉塵都會產生非常大的負面影響，所以無塵是光學結構產品生產的必然要求。

如果每立方米小于0.5微米的塵粒數控制在3500個以下，就達到了國際無塵標準的A級。目前應用于芯片級生產加工的無塵標準對粉塵的要求比A級更高，這樣的高標準主要應用于一些更高級別的芯片的生產。細粉塵量嚴格控制在每立方米1000個以內，也就是業(yè)內俗稱的1K級別。